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          混合靶材對激光觸發(fā)真空開關(guān)導(dǎo)通過程的影響分析

          發(fā)布時間:2025-02-10 17:13:43 瀏覽次數(shù) :

          激光觸發(fā)真空開關(guān)(Laser Triggered Vacuum Switch,LTVS)是一種新型脈沖功率閉合開關(guān)。其通過真空開關(guān)與脈沖激光技術(shù)發(fā)展而來,利用脈沖激光照射并燒蝕觸發(fā)材料,產(chǎn)生大量初始等離子體,使真空間隙快速閉合[1-5]。因其具有觸發(fā)時延短、導(dǎo)通波形抖動低、通流容量大、使用壽命長等優(yōu)勢,LTVS在脈沖激光器、電磁發(fā)射系統(tǒng)、直流斷路器、直線變壓驅(qū)動裝置等大電流快速關(guān)合領(lǐng)域已展現(xiàn)出極佳的發(fā)展前景[6-9]。

          自1973年MakarevichAA等[10]采用脈沖激光觸發(fā)真空間隙,證明LTVS具有優(yōu)良的通流能力以來,學(xué)界針對LTVS的性能提升及觸發(fā)機理開展了大量研究。1988年美國Sandia實驗室的BrannonPJ等[11]研究發(fā)現(xiàn)以Ti和KCl混合物作為靶材,LTVS的觸發(fā)時延低于100ns,且認(rèn)為激光對靶材料的熱效應(yīng)是間隙內(nèi)初始等離子體產(chǎn)生的原因,電弧的穩(wěn)定燃燒則依賴間隙內(nèi)的離子再生。大連理工大學(xué)趙巖等[12]對LTVS時延特性進(jìn)行研究,發(fā)現(xiàn)激光能量的增加和激光波長的減小會縮短LTVS的觸發(fā)時延,增加間隙距離則會一定程度上延長LTVS的觸發(fā)延時。2015年起,華中科技大學(xué)何正浩等[13-14]研究了多棒型LTVS的導(dǎo)通過程,認(rèn)為初始等離子體的擴(kuò)散主要依賴速度更快的自由電子遷移,使開關(guān)獲得更短的延遲時間且觸發(fā)穩(wěn)定性更高。大連理工大學(xué)趙通等[15]發(fā)現(xiàn),LTVS開斷高頻電流的能力受到電弧對觸發(fā)材料燒蝕作用的影響。

          由上述分析可見,此前關(guān)于LTVS的研究主要針對其時延特性、高頻開斷能力等性能的提升,而LTVS放電時間隙內(nèi)真空電弧的發(fā)展、擴(kuò)散過程對其時延特性、通流容量、高頻開斷能力和使用壽命等諸多關(guān)鍵參數(shù)影響顯著,先前研究并沒有提到。對于真空電弧發(fā)展擴(kuò)散的研究則主要關(guān)注工頻條件下真空斷路器內(nèi)電弧的發(fā)展。針對脈沖真空電弧擴(kuò)散過程及影響因素的研究相對較少。如西安交通大學(xué)王立軍等[16]發(fā)現(xiàn),隨著電流幅值和間隙距離的增加,工頻真空電弧的弧柱收縮被增強,影響真空斷路器的電流開斷能力。與斷路器內(nèi)因觸點分離而被引燃的工頻真空電弧不同,LTVS的放電依賴激光與觸發(fā)材料的相互作用,且放電時間通常在微秒或納秒量級,通流時間短,電弧燃燒過程易受熔沸點較低的觸發(fā)材料影響。

          為探明LTVS脈沖放電時間隙內(nèi)真空電弧的擴(kuò)散過程及觸發(fā)材料對開關(guān)性能的影響機制,本文基于可拆真空腔體搭建實驗平臺,結(jié)合電弧圖像拍攝、燃弧數(shù)值模擬,研究了觸發(fā)材料對真空電弧發(fā)展擴(kuò)散過程,以及對開關(guān)觸發(fā)時延、電流開斷能力等關(guān)鍵特性的影響,根據(jù)試驗結(jié)果給出參數(shù)優(yōu)化建議。

          1、實驗平臺搭建

          1.1LTVS放電試驗平臺

          LTVS放電的實驗電路如圖1所示,由激光觸發(fā)系統(tǒng)、RC放電電路和基于可拆真空腔體的LTVS樣機組成。

          截圖20250213204151.png

          激光觸發(fā)系統(tǒng)采用Nd:YAG激光器產(chǎn)生波長1064nm,脈寬10ns的脈沖激光。激光束通過全反鏡、分光鏡和聚焦鏡片后,聚焦在觸發(fā)材料表面,材料表面光斑面積1.1mm2。激光信號由光電探頭檢測。RC放電電路中,脈沖電容C0為8.9μF,電路電阻RL為11.85Ω,電橋測得電路的雜散電感Ld為4.8μH。

          LTVS的電壓由高壓探頭(TeKP6015A)測量。脈沖電流探頭Ct由TeKCT-4和TCP202A組成。高速相機的采樣幀率最大為100000fps,曝光時間可據(jù)試驗要求調(diào)整。觸發(fā)控制器分別控制激光頭和高速攝像機的動作。

          LTVS腔體內(nèi)真空度由抽氣系統(tǒng)維持在2×10-5Pa以下。設(shè)置LTVS為正極性工作方式。腔體內(nèi)電極為縱磁杯狀電極,表面材料為CuCr50合金,電極直徑為58mm。電極間距設(shè)為8mm。根據(jù)前人研究,觸發(fā)材料選用目前常用的Ti與KCl的混合物,1:1混合后壓制成錐狀結(jié)構(gòu),填充于陰極中心的5mm凹槽內(nèi)。設(shè)置錐型靶材頂部與陰極表面之間距離為1mm,以減少電弧燒蝕對材料的影響。

          1.2LTVS的放電波形

          工作電壓4.4kV,LTVS的放電波形如圖2所示。設(shè)置作用于觸發(fā)材料表面的激光能量為25mJ。激光作用后68ns,LTVS上的電壓開始下降,表明此時間隙內(nèi)建立了起始放電通道,LTVS被觸發(fā)。此前研究通常定義LTVS的觸發(fā)時延為激光信號開始上升到工作電壓開始下降的時間[17]。激光作用約5μs后,經(jīng)LTVS傳輸?shù)拿}沖電流達(dá)到峰值230A。隨后,電流受回路參數(shù)影響,逐漸衰減至零。

          2、LTVS放電過程分析

          采用高速攝像機拍攝的LTVS放電過程中真空電弧圖像如圖3所示。結(jié)合圖2可知,LTVS被觸發(fā)后,間隙內(nèi)放電光斑亮度隨著電流的上升快速增加,后隨電流的下降逐漸衰減。激光照射145μs后,電流降至100A以下,電弧弧柱開始斷裂。LTVS在360μs左右完成電流開斷,電弧熄滅。

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          隨后利用matlab對電弧圖像進(jìn)行分析,計算了真空電弧面積和周長隨時間的變化。計算原理如下:將電弧圖像分為若干像素點,用二值法將白色像素記為1,黑色像素記為0,電弧周長和面積為白色區(qū)域的周長和面積。標(biāo)定一個白色像素點為一個小正方形,換算后一個像素點面積為0.07mm2,邊長為0.2646mm,如圖4所示。計算所得面積周長曲線如圖5所示。根據(jù)電弧圖像和計算的電弧面積和周長,可將燃弧過程分為三個階段:觸發(fā)階段(圖3(a)~圖3(d))、擴(kuò)散階段(圖3(e)~圖3(h))和熄弧階段(圖3(i)~圖3(l))。

          截圖20250213204453.png

          觸發(fā)階段,激光與觸發(fā)材料相互作用釋放初始等離子體,初始等離子體不斷與觸發(fā)材料及真空電極發(fā)生碰撞,并在電離能/逸出功較低的觸發(fā)材料表面形成初始放電通道,開始傳輸電荷,如圖3(a)中材料表面放電光斑所示。隨著間隙傳輸電流的增加,在電極表面熱作用和間隙鞘層電場作用下,更多帶電微粒進(jìn)入真空間隙,電弧等離子體與電極表面和觸發(fā)材料的碰撞作用被加強,初始放電通道逐漸演變?yōu)檎婵针娀?,間隙內(nèi)電弧通道的亮度、面積和周長急劇增大(如圖3(b)~圖3(d)以及圖5紅框所示)。電弧擴(kuò)散期間,真空電弧擴(kuò)散主要受觸發(fā)材料釋放微粒和間隙電磁場的影響。由于觸發(fā)材料的電離能/逸出功較低,觸發(fā)材料更容易在等離子體的碰撞作用下發(fā)生電離,釋放新的帶電微粒進(jìn)入間隙。因此圖3中電弧主要集中在觸發(fā)材料表面。電流達(dá)到峰值時,圖3(e)中的真空電弧的面積和周長最大,亮度也最高。隨后LTVS上的電流逐漸減小,間隙內(nèi)注入等離子體的密度也逐漸下降,碰撞電離的作用相應(yīng)降低,圖3(f)至圖3(h)中真空電弧的亮度、面積和周長逐漸減小(如圖5藍(lán)框)。隨著電流的減小,等離子體發(fā)生碰撞引起電離的概率進(jìn)一步降低,與電極表面碰撞引起電離的幾率更低,電弧的面積和周長逐漸減?。ㄈ鐖D5綠框)。此時,間隙內(nèi)碰撞電離主要發(fā)生在觸發(fā)材料與陰極交界面附近的電場不均勻區(qū)域。因此圖3(i)至圖3(l)中電弧弧柱斷裂后,電弧主要位于觸發(fā)材料與陰極凹槽的交界位置。

          截圖20250213204513.png

          3、觸發(fā)材料對LTVS觸發(fā)與燃弧過程的影響

          由上述分析可知,觸發(fā)材料在LTVS的放電過程中不斷向間隙釋放帶電微粒,影響放電通道的擴(kuò)散并造成其工作性能差異。

          3.1觸發(fā)材料對LTVS時延特性的影響分析

          LTVS的快速觸發(fā)主要依賴激光與觸發(fā)材料的相互作用,Ti與KCl的混合材料主要由Ti吸收激光能量,使KCl熔融、氣化并被電離產(chǎn)生大量初始等離子體以建立放電通道。采用高速相機拍攝得到LTVS初始等離子體的擴(kuò)散形態(tài)如圖6所示。在激光熱作用與光致級聯(lián)電離電離作用下,初始等離子體呈擴(kuò)散狀離開材料表面,激光與材料發(fā)生作用區(qū)域附近的等離子體密度最高,光斑亮度也最大[17-18]。

          截圖20250213204530.png

          根據(jù)此前研究,LTVS的觸發(fā)時延受觸發(fā)材料的影響顯著。改變觸發(fā)材料種類、混合材料比例、靶材結(jié)構(gòu)、材料深度等參數(shù)都會對LTVS的觸發(fā)時延造成不同程度的影響[19]。根據(jù)圖6等離子體圖像,可描述正極性LTVS內(nèi)初始等離子體的擴(kuò)散形態(tài)如圖7所示。受間隙電場影響,擴(kuò)散至間隙的初始等離子體成分以質(zhì)量輕、速度快的自由電子為主,向陽極運動的Cl-速度較慢;Ti+和K+逸出材料表面后被電場減速,向陰極運動。因此,相較于負(fù)極性間隙,正極性LTVS可獲得更短的觸發(fā)時延。

          截圖20250213204550.png

          此外,觸發(fā)材料種類或混合材料的比例改變時,進(jìn)入間隙的初始等離子體成分或比例被改變,導(dǎo)致開關(guān)觸發(fā)時延的變化。靶材結(jié)構(gòu)變化主要影響材料對激光能量的吸收效果,而靶材深度的變化改變了初始等離子體的擴(kuò)散距離,影響LTVS的觸發(fā)時延。當(dāng)Ti與KCl混合比例為1:1時,觸發(fā)時延在100ns以內(nèi),雖然比高Ti含量下觸發(fā)時延要高,但其在納秒級別的時延已經(jīng)滿足實驗要求,且開斷電流能力比較穩(wěn)定,靶材使用壽命較長。相關(guān)參數(shù)對觸發(fā)時延的影響規(guī)律此前已有詳細(xì)研究[20-21],本文不再贅述。

          3.2LTVS內(nèi)電弧發(fā)展過程仿真

          電微粒,從而成為真空間隙內(nèi)主要的等離子體源之一,如圖3所示。為更深入地分析燃弧階段觸發(fā)材料對電弧擴(kuò)散的影響,本文建立了LTVS內(nèi)真空電弧的MHD模型,對等離子體的時空分布特性進(jìn)行模擬。

          3.2.1仿真模型介紹

          LTVS內(nèi)真空電弧仿真模型基于磁流體動力學(xué)理論構(gòu)建。模型將真空電弧視為導(dǎo)電流體,建立的的MHD模型包括電、磁、流體等物理場,結(jié)合電子與離子的質(zhì)量守恒、動量守恒、能量守恒等相關(guān)方程,對燃弧過程進(jìn)行分析。模型是高度非線性的方程組,需要用數(shù)值求解方法進(jìn)行求解,利用COMSOL多物理場仿真軟件對燃弧階段真空電弧等離子體的擴(kuò)散和分布特性進(jìn)行計算,有效的解決了復(fù)雜的計算過程。

          截圖20250213204605.png

          公式(1)、(2)分別表示電子和離子的質(zhì)量守恒方程。其中,電子、離子質(zhì)量密度由ρe和ρi表示,ρe=neme,ρi=nimi;電子、離子的質(zhì)量分別為me和mi,電子速度為v,離子速度為u。

          截圖20250213204616.png

          公式(3)、(4)分別表示電子和離子的動量守恒方程。其中,電子、離子的體積力為Fve和Fvi,電子和離子壓力梯度為▽Pe和▽Pi,電子離子相對運動產(chǎn)生的摩擦力為fie和fei,電子離子之間的熱力為fth和fthi,粘性應(yīng)力用▽﹒[τij]e和▽﹒[τij]i表示。

          截圖20250213204627.png

          公式(5)、(6)分別表示電子和離子的能量守恒方程。其中,電子等壓比熱為Cpe=5k/2me,離子等壓比熱為Cpi=5k/2mi,k代表Boltzmann常數(shù),電子和離子的溫度為Te和Ti,電子離子的熱流密度分別為qe和qi,電子離子的粘性耗散功分別為Фe和Фi,電子與離子碰撞損失的能量為Qei,離子吸收的能量為Qie,電子與離子的熱項分別為Se、Si。

          此外,該電弧模型基于以下假設(shè):(1)認(rèn)為該模型滿足等離子體的準(zhǔn)電中性條件,用宏觀流體力學(xué)描述等離子體流動。(2)認(rèn)為間隙內(nèi)等離子體處于完全電離狀態(tài)。(3)認(rèn)為陰極和觸發(fā)材料是間隙等離子體產(chǎn)生的唯一來源。(4)認(rèn)為電子和離子形態(tài)為完全氣體。

          3.2.2仿真設(shè)置條件

          模型的網(wǎng)格剖分如圖8所示,電極材料選取CuCr50合金,電極半徑為29mm,間隙距離設(shè)為8mm,觸發(fā)材料為半徑2.5mm的圓柱狀結(jié)構(gòu),靶材頂部比陰極表面低1mm。結(jié)合此前實驗觸發(fā)過程分析,電弧電流峰值為230A,由于電弧電流較小,等離子體速度約為1×104m/s,電弧屬于超音速流動。對于熱傳導(dǎo)模塊,在陰極側(cè)設(shè)置了狄利克雷邊界條件,在陽極設(shè)置了電子熱流密度,側(cè)面則為絕熱條件。在初始條件中,陰極邊界電子溫度設(shè)為1.5eV,環(huán)境溫度設(shè)為0.026eV。對于流體動力學(xué)模塊,初始條件中陰極邊界離子速率設(shè)為1×104m/s,陰極邊界離子溫度設(shè)為0.3eV。

          截圖20250213204643.png

          3.2.3仿真適用條件

          本文的仿真為超音速或亞音速真空電弧燃弧階段的模型。模型中流體動力學(xué)模塊計算對象為離子,描述的是離子質(zhì)量、動量、能量守恒;傳熱模塊計算對象為電子,描述的是電子能量守恒。仿真模型適用于壓力范圍在10-4-10-7Pa之間的高真空環(huán)境。在這個范圍內(nèi),氣體分子之間碰撞相對較少,電弧主要由電子、離子與電極表面的相互作用主導(dǎo),符合模型的物理假設(shè)。當(dāng)壓力超出范圍時,氣體分子對電弧的影響逐漸增大,模型的準(zhǔn)確性會降低。模型只適用于常見的金屬電極材料,如銅、鎢及其合金,對于一些特殊的新型材料或復(fù)合材料,超出了模型的適用范圍。

          3.2.4仿真結(jié)果分析

          LTVS被觸發(fā)后5μs,即電流達(dá)到峰值時刻間隙內(nèi)電子和離子的溫度與密度分布如圖9所示。電流230A時,間隙內(nèi)等離子體呈擴(kuò)散形態(tài)分布,觸發(fā)材料表面區(qū)域的自由電子密度最高,達(dá)到3.96×1022m-3,溫度可達(dá)17387K,表明電弧等離子體與觸發(fā)材料的碰撞電離程度最劇烈。仿真規(guī)律與電弧圖像的分布情況相吻合。

          截圖20250213204655.png

          為便于后續(xù)分析,將間隙燃弧區(qū)域劃分為5個區(qū)域,其中a為近陽極區(qū),b為陽極中心區(qū),c為間隙中心區(qū),d為陰極中心區(qū),e為近陰極區(qū)。改變仿真模型中電流幅值,得到燃弧期間不同區(qū)域的電子密度變化如圖10所示。可見間隙內(nèi)自由電子密度與電流幅值成正相關(guān)。燃弧期間由于電弧的熱燒蝕作用,熔沸點更低的Ti+KCl混合物相較于銅電極來說,更容易釋放粒子到間隙中,作為主要的等離子體源,有利于在間隙建立更強的放電通道,影響間隙的電流傳輸過程,即影響開關(guān)的放電功率。本文實驗結(jié)果與文獻(xiàn)[22]的研究結(jié)論基本一致。

          截圖20250213204711.png

          本文對真空電弧燃弧階段進(jìn)行了實驗與仿真方面的分析,但二者之間存在一定的誤差。實驗方面,由于相機幀率為100000fps,因此在燃弧階段拍攝的電弧圖像為電弧發(fā)展10μs內(nèi)累加的結(jié)果,而仿真模型是在一定假設(shè)條件下建立的具體某一時刻的燃弧圖像。但仿真結(jié)果與實驗結(jié)果電弧圖像較吻合,故可以近似認(rèn)為兩者是一個條件下的燃弧過程,可以用仿真結(jié)果對燃弧過程進(jìn)行微觀分析。

          4、觸發(fā)材料對真空間隙電弧熄滅過程的影響分析

          由于觸發(fā)材料密度相對較低,且其逸出功/電離能均低于致密的電極表面材料CuCr50。電弧熄滅階段,間隙內(nèi)密度較低的電弧等離子體仍會與觸發(fā)材料發(fā)生碰撞,電離產(chǎn)生新的帶電微粒進(jìn)入間隙,影響LTVS的電弧熄滅過程,降低LTVS的電流開斷能力。這也是觸發(fā)間隙內(nèi)電弧與真空斷路器內(nèi)電弧的主要區(qū)別之一。LTVS工作電壓3.9kV,峰值電流180A時,在熄弧階段觀察到明顯的觸發(fā)材料釋放微粒進(jìn)入間隙的過程,拍攝圖像如圖11所示。

          截圖20250213204730.png

          在圖10仿真結(jié)果中,出現(xiàn)在150μs-200μs時間隙內(nèi)電子密度隨電流的減小而增大的趨勢,本文認(rèn)為這是由于觸發(fā)材料受電弧熱燒蝕影響,向間隙釋放帶電粒子,影響間隙內(nèi)電弧的熄滅過程和開關(guān)的電流開斷能力。圖10仿真結(jié)果也可說明圖11實驗觀察到的弧后靶材微粒逸出的過程,亦可解釋文[23]中不同觸發(fā)材料LTVS高頻開斷能力出現(xiàn)差異的原因。

          作為對比,本文調(diào)整觸發(fā)開關(guān)樣機的觸發(fā)方式,以Al2O3陶瓷為閃絡(luò)材料,對比沿面閃絡(luò)的電觸發(fā)真空開關(guān)在相近條件下,開斷電流時的情況。拍攝得到的電弧圖像如圖12所示。可見隨著電流的衰減,間隙內(nèi)真空電弧逐漸熄滅,Al2O3陶瓷并未受電弧燒蝕影響向間隙釋放帶電微粒,影響間隙的電流開斷能力。

          截圖20250213204747.png

          由圖11與圖12結(jié)果對比分析可知,熄弧階段LTVS內(nèi)真空電弧對觸發(fā)材料熱作用釋放的帶電粒子,會在一定程度上影響間隙的電流開斷能力。因此,設(shè)計用于高頻開斷場合的LTVS時,應(yīng)調(diào)整開關(guān)的觸發(fā)材料種類或混合比例,以提升其電流開斷能力。

          5、結(jié)論

          本文結(jié)合仿真與實驗研究,分析了觸發(fā)材料對LTVS內(nèi)電弧擴(kuò)散過程和關(guān)鍵工作參數(shù)的影響,可以得到以下結(jié)論:

          與真空斷路器內(nèi)電弧擴(kuò)散不同,LTVS內(nèi)真空電弧擴(kuò)散受觸發(fā)材料的影響。激光作用于觸發(fā)材料,產(chǎn)生并快速向間隙內(nèi)輸送大量初始等離子體,加速間隙觸發(fā);燃弧期間電弧對觸發(fā)材料的燒蝕作用會在觸發(fā)材料表面形成放電斑點,向間隙釋放更多帶電微粒,有利于建立有效的放電通道,提升LTVS的放電功率;觸發(fā)材料在熄弧階段受電弧熱作用向間隙釋放帶電微粒,會在一定程度上影響開關(guān)的高頻電流開斷能力。建議根據(jù)LTVS應(yīng)用需求,合理調(diào)整其觸發(fā)材料以提升其關(guān)鍵性能。

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