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          鎳靶廠家談?wù)婵斟兡ず凸鈱W(xué)鍍膜的異同

          發(fā)布時間:2021-03-23 17:30:24 瀏覽次數(shù) :

          鍍膜靶材是用物理或化學(xué)的方法在靶材表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜,或鍍一層金屬膜,目的是改變靶材表面的反射和透射特性。而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學(xué)鍍膜,有不少用戶不知道這二者的區(qū)別,凱澤金屬通過多年的鈦靶、鉻靶、鎳靶、鋯靶等不同金屬材料的鍍膜,對于真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的異同,結(jié)合相關(guān)資料,整理如下:

          一、真空鍍膜概念

          1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。

          2、真空鍍膜主要利用輝光放電將氬氣離子撞擊靶材表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。

          二、光學(xué)鍍膜概念

          1、光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。

          2、光學(xué)零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強度分布,這是干涉鍍膜的基本原理。

          三、真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的區(qū)別

          1、性質(zhì)不同

          通過上面對真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的概念介紹,我們發(fā)現(xiàn)二者在性質(zhì)方面有所不同。真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件表面而形成薄膜的一種方法。而光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層金屬或介質(zhì)薄膜的工藝過程。

          2、原理區(qū)別

          (1)真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面,它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),利用物理或化學(xué)方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或濺射,使其在被涂覆的物體上凝固并沉積的方法。

          (2)光的干涉在薄膜光學(xué)中廣泛應(yīng)用。光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜,一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率,以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損失,提高成像質(zhì)量,涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜,稱為增透膜或減反射膜。

          3、方法材料不同

          (1)真空鍍膜的方法

          真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面,凝結(jié)而成薄膜。

          陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi),保持壓強約1.33~13.3Pa,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。

          化學(xué)氣相沉積:通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物,獲得沉積薄膜的過程。

          離子鍍:實質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結(jié)合,兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點。

          (2)光學(xué)鍍膜的材料

          氟化鎂:無色四方晶系粉末,純度高,用其制光學(xué)鍍膜可提高透過率,不出崩點。

          二氧化硅:無色透明晶體,熔點高,硬度大,化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高,用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜,蒸發(fā)狀態(tài)好,不出現(xiàn)崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

          氧化鋯:白色重質(zhì)結(jié)晶態(tài),具有高的折射率和耐高溫性能,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,純度高,用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜,不出崩點。

          4、膜厚不同

          真空鍍膜一般金屬材料電鍍出來的膜厚度大概是3-5微米。光學(xué)鍍膜的膜厚測試可以在鍍膜機的中間頂上裝置膜厚測試儀即可。早期使用的是光控測試,現(xiàn)在一般用晶振片,使用的是晶振片震動的頻率來測試鍍膜的厚度。不同膜層的厚度不同。

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          以上內(nèi)容就是真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的異同的介紹,希望能幫到大家。真空鍍膜的過程很復(fù)雜,只是因為都需要高真空度而得名,光學(xué)鍍膜的鍍膜材料都是稀有金屬,這些材料隨著科技的發(fā)展其需求可能會增長。寶雞市凱澤金屬材料有限公司是一家研發(fā)生產(chǎn)鈦靶、鉻靶、鋯靶、鎳靶、鈦鋁靶、鈦絲、鈦加工件、鈦鍛件等金屬材料為主的高新技術(shù)企業(yè),十余年專注于濺射靶材、鍍膜靶材、平面多弧靶材研發(fā)、生產(chǎn),靶材組織結(jié)構(gòu)均勻、濺射成膜性能優(yōu)異,如果您對靶材有疑問或需要,歡迎聯(lián)系凱澤金屬。

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